①　特許法等の改正

　特許法等の一部を改正する法律が令和元年５月１７日に公布され、１年以内に施行される予定です。

 

１．特許訴訟制度の充実

　侵害した者勝ちにならないように、専門家による現地調査の制度が創設され、損害賠償額の算定方法も見直されました。損害賠償については、侵害者が利益を損害額として推定する場合がありますが、特許権者が実施できる範囲を超えるところまでは認められていませんでした。しかし、改正により、超える分もライセンスしたとみなして認められる可能性があります。また、ライセンス料相当額も増額される可能性があります。

 

２．意匠制度の拡充

（１）保護対象の拡充

　物品に記録・表示されていない画像も意匠登録の対象になるようです。また、施設内部の設備や装飾を「内装の意匠」として登録を受けることができるようになります。

（２）関連意匠制度の見直し

　関連意匠は、類似関係にある複数の意匠のうち一つを本意匠として、本意匠に類似する意匠を登録する制度です。本意匠の公報が発行される前に出願する必要がありましたが、本意匠の出願から１０年以内であれば登録が認められるようになります。ただし、後出しする時点で公知になっていた場合は拒絶されます。

　また、類似の無限連鎖を抑制するために、関連意匠は本意匠に類似する必要がありましたが、他の関連意匠に類似していれば良いようになります。

（３）存続期間の変更

　今までは「登録から２０年」でしたが、「出願から２５年」に変更されます。

（４）手続の簡素化

　今までは意匠ごとに出願する必要がありましたが、一つの出願に複数の意匠を入れても良くなるようです。ただし、同じ物品の複数の意匠は大丈夫ですが、複数の物品は駄目です。

（５）間接侵害規定の拡充

　侵害品を部品に分割して製造・輸入等した場合も侵害とみなすことが可能になります。

 

３．商標制度の見直し

　地方公共団体や公益団体などの著名な商標については、他人には登録されず、他人に使用権を許諾することもできませんでしたが、ブランド化を推進するためにライセンスが認められるようになります。